各種フォトレジストL / S (ライン&スペース)のMLA150露光条件最適化
課題名
レジストの形状観察
課題番号
データセット登録者
東北大 古林(東北大学)
エンバーゴ期間終了日
2024-01-18
データセットID
43f8fa42-7b5f-48d3-83b3-cbac570bf1c2
ファイルサイズ
94.65MB
データ数
10
装置名
[FDL] Lithography
要約
マスクレスアライナMLA150(Heidelberg Instruments製)には、露光量とフォーカスを一定間隔で同時に振り、最適露光量とベストフォーカスを調べるSeries機能がある。MLA150を露光装置としてリソグラフィーを行い、FE-SEMでレジスト膜厚付近のL/S断面形状を観察し、OFPR、TCIR、TSMR、PMER、ZPNの最適露光量とベストフォーカスの検証を行った。
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