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大分類合成、熱処理、ドーピング  → 大分類一覧を表示
中分類酸化、拡散、イオン注入  → 中分類一覧を表示
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4件中、1件目~4件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
酸化炉 広島大学 微細加工 東京エレクトロン社製最高使用温度1150℃...
燐拡散炉 広島大学 微細加工 神港精機社製最高使用温度900℃...
イオン注入装置 広島大学 微細加工 アルバック社製5keV-150keV, B, As, P, Si, F, Ar, In, Sb, N, He 等注入可能...
インプラ後アニール炉 広島大学 微細加工 東京エレクトロン社製最高使用温度1150℃...