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大分類リソグラフィ・露光・描画装置  → 大分類一覧を表示
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2件中、1件目~2件目を表示しています。

写真 設備名称 設置機関 研究分野 仕様
レーザー描画装置 筑波大学 微細加工 DWL66/Heidelberg instruments社・ 最小描画サイズ:1 µm・ 光源:He-Cdレーザー (波長 442 nm)・ 最大基板サイズ:200 mm&n...
パターン投影リソグラフィシステム 筑波大学 微細加工 μPG501/Heidelberg instruments社 描画エリア;125×125mm2 最小描画サイズ;1.0μm 最小アドレッシンググリッド;50nm@1μm 描画スピード;50mm2/min@...