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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-SH-051
分類 表面分析装置 > 電子分光(XPS/UPS/AES)
表面分析装置 > オージェ電子分光(AES)
設備名 光電子分光装置(ESCA)
(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis (XPS,ESCA))
地域 中部
設置機関 信州大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者
仕様

日本電子株式会社(JEOL Ltd.)製 QuanteraⅡ

性能:最小ビーム径 7.5μm 以下
検出器 32 チャンネル
X線スキャン範囲 最大1.4mm ×1.4mm (連続可変)
イオン銃加速電圧 0~5kV
イオン銃ラスター範囲 最大5㎜×5㎜(連続可変)
到達真空度 6.7×10-8 Pa以下

 

S-SH-051

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