文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-OS-139
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(その他)
設備名 二次イオン質量分析ナノデバイス加工装置
(Ion Beam Milling System with Secondary Ion Mass Spectrometer as End Point Detecter)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者 樋口 宏二
仕様

伯東株式会社
IBE-KDC75-EDP-OU-TA

  • イオンソース:カウフマン型、グリッド径φ7.5 cm
  • 真空チャンバー:ステンレス製、冷却機能付
  • 基板ホルダーステージ:直冷式、1 cm角~4インチウエハまで搭載可能、ドライチャック・メカニカルチャック方式
  • 均一性 : ≤ ±6%(φ4インチに対しφ90 mm)
  • 終点検知器:増幅率108以上の90度偏向型維持イオン電子倍増管付き四重極質量分析計終点検知器
S-OS-139

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)