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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-OS-136
分類 ものづくり・合成支援 > 薄膜作製支援
設備名 RFスパッタ装置
(Radio Frequency Sputtering System)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者 樋口 宏二
仕様

サンユー電子株式会社
SVC-700LRF

  • 試料サイズ:max 2inch
  • 加熱温度:RT~300℃
  • ガス種:Ar,O2
S-OS-136

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