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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-OS-133
分類 合成、熱処理、ドーピング > 熱処理、レーザーアニール
合成、熱処理、ドーピング > 成長炉
設備名 高温熱処理装置 (セラミックス電気管状炉)
(Electric Furnace)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者 樋口 宏二
仕様

誠南工業株式会社
ARF-30K

  • 真空度:~1.0E-4Pa、各種ガス雰囲気
  • 温度:~1000℃
  • 石英管(内径:1inch)
S-OS-133

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