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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-OS-131
分類 分光 > 薄膜用紫外〜赤外反射
形状・形態観察、分析 > 膜厚・段差・粗さ測定
その他材料評価 > 膜厚測定装置(エリプソメーター)
設備名 位相変調型分光エリプソメーター
(Spectroscopic Ellipsometer)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者 佐久間 美智子
仕様

株式会社堀場製作所
UVISEL LT NIR-NNG

  • 波長域:260nm~2100nm
  • 照射領域:2mm×6mm
S-OS-131

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