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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-OS-124
分類 ものづくり・合成支援 > 薄膜作製支援
成膜・膜堆積 > MBE(分子線エピタキシー)
設備名 人工超格子薄膜形成システム (PLD)
(Pulse Laser Deposition (PLD) System)
地域 近畿
設置機関 大阪大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者 樋口 宏二
仕様

誠南工業株式会社
PLO-020R

  • ArF レーザー:193nm(標準出力100mJ)
  • 試料加熱:~850℃
  • 酸素分圧:1.0E-6Pa~5Pa
  • 試料サイズ:max 1cm
S-OS-124

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