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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-NI-127
分類 ものづくり・合成支援 > 薄膜作製支援
設備名 スパッタリング蒸着装置
(Sputtering Deposition Apparatus)
地域 中部
設置機関 名古屋工業大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者 日原 岳彦
仕様

アルバック社製  SPC-2000HC

ヘリコン波励起スパッタリング
RF電源13.56MHz 200W

S-NI-127

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