文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-MS-093
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 マスクレス露光装置(DL-1000/IMC)段差計付き
(Maskless Lithography with Step Gauge)
地域 中部
設置機関 分子科学研究所
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者 山本浩史 装置開発室長
鈴井光一 技術課長
中野路子 技術職員
高田紀子 技術職員
仕様

ナノシステムソリューションズ DL-1000/IMC

 ・段差計(KLA Tencor  P7)
 ・精密温度調整機能付クリーンブース
 ・マスクアライナー(ミカサ社製MA-10)
 ・スピンコーター(ミカサ社製MS-A100)
 ・小型2源RFスパッタ装置(デポダウン)
 (クライオバック  RSP-4-RF3×2)

 

PC(Personal Computer)上で作画した任意のパターンデータを入力することでフォトマスクを用いることなく直接基板上の感光性樹脂材料(フォトレジスト)に転写できる露光装置。
405nmLED、1W/cm2 露光範囲100㎜×100㎜

 

 

S-MS-093

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