文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-CT-006
分類 ものづくり・合成支援 > 薄膜作製支援
成膜・膜堆積 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
ものづくり・合成支援 > ナノ材料・カーボン材料作製支援
成膜・膜堆積 > スパッタリング
表面処理 > プラズマ
設備名 薄膜形成支援装置群
(Thin film deposition apparatus)
地域 北海道
設置機関 千歳科学技術大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者
仕様

1. 真空蒸着器
    ALS社製 E-100
    蒸発源: 8源 (同時蒸着2源)
2. 真空蒸着器
    アルバック社製 VPC-260
    蒸発源: 2源
    到達圧力 6.5 × 10-4Pa
3. 真空蒸着器
    アネルバ製 L-043E-TN蒸発源: 3源
    到達圧力 5 × 10-5Pa
4. スパッタ装置
    アルバック社製 MUE-ECO-C2
    スパッタカソード: 2インチマグネトロン式 × 2
    基板加熱: 最高300℃
5. 自己組織化構造作成装置
    ユーエスアイ・システム社製 ESD-23改
    移動速度:0.1-99.9mm/min
6. 液晶配向膜ラビング装置
    日本文化精工社製(自作)
    真空吸着テーブルサイズ(50X50mm)
    ラビングローラー回転速度可変<1000rpm
    テーブル移動速度調節可
7. リアクティブエッチング装置
    サムコ社製 RIE-10NR

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