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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID S-CT-036
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(RIE)
設備名 リアクティブエッチング装置
(Reactive ion etching apparatus)
地域 北海道
設置機関 千歳科学技術大学
研究分野 分子・物質合成
担当部署または担当者 大越研人
仕様

サムコ社製

RIE-10NR

S-CT-036

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