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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-YA-362
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(ECR)
設備名 ECRエッチング装置
(ECR ion etching system)
地域 中国
設置機関 山口大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 岸村
仕様

㈱エリオニクス社製 EIG-210ER(ECR型イオン銃)
イオン化ガス Ar・Xe等不活性イオン種ガス
            N2・O2・CF4等活性イオン種用ガス
加速電圧  100~1000V連続可変
イオンビーム有効径 Φ20mm
試料サイズ 最大4インチΦ

F-YA-362

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