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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-YA-361
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 3元RFマグネトロンスパッタ装置
(RF Magnetron Sputter Equipment(3-Target))
地域 中国
設置機関 山口大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 木村
仕様

ULVAC ミニスパッタ MNS-2000-RF

  • 到達真空 1×10-5Pa
  • 基板 最大56mmφ
  • ターゲット 50mmφ×5mmt
  • 電源 RF 500W
  • 加熱温度 ~800℃

 

F-YA-361

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