文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-YA-360
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(ECR)
設備名 ECRエッチング装置
(ECR ion etching system)
地域 中国
設置機関 山口大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 岸村
仕様

(株)エリオニクス社製 EIS-200ER

  • イオン銃 ECR型イオン銃
  • イオン化ガス
     Ar・Xe等不活性イオン種ガス
     N2・O2・CF4等活性イオン種用ガス
  • 加速電圧
     100~3000V連続可変
     20~200V(低加速電極ユニット)
  • イオンビーム有効径 φ20mm
  • イオン流安定度 ±3%/2H

 

F-YA-360

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)