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ナノテクジャパンは、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム」の一環として、全国の産学官の利用者に対して、
最先端研究施設及び研究支援能力を分野横断的にかつ最適な組合せで提供できる共用システムを構築し、研究課題解決への貢献を目指して活動しております。

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文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ！　研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名	ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID	F-YA-359
分類	膜加工・エッチング＞ドライエッチング(RIE)
設備名	深掘りエッチング装置 (Deep reactive ion etching systems )
地域	中国
設置機関	山口大学
研究分野	微細加工
担当部署または担当者	岸村
仕様	サムコ　RIE-400iPB エッチング速度　10μm/min以上対フォトレジスト選択比　100：1 アスペクト比　20～30（幅3μmの溝）深掘加工　レジストマスクにて400～500μm 試料サイズ　最大4インチ

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。