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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-YA-350
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 UHV10元スパッタ装置
(Ultra high-vacuum multi-target sputtering system)
地域 中国
設置機関 山口大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 木村
仕様

(株)エイコー・エンジニアリング社製  ES-350W
    構      成:5元×2チャンバ+LL=10元スパッタが可
    到達圧力:3×10-7 Pa
    電      源:RF(500W)、DC(1kW)
    基板寸法:~φ2インチ
    加熱温度:~600℃

F-YA-350

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