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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-YA-349
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 マスクアライナー
(Mask aligner)
地域 中国
設置機関 山口大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 岸村
仕様

カールズース社製  SUSS-MJB3  

  • 光源:高圧水銀灯(350~450nm)
    350W(回折線減少露光光学系)
  • 最小線幅:1.0μmL/S
  • マスクサイズ:2.5インチフォトマスク
  • 試料サイズ:2インチウエハー、3cm角(小片対応可)
  • 密着露光:ソフトコンタクト、ハードコンタクト、バキュームコンタクト
  • アライメント:手動によるサブミクロンレベルの精度
F-YA-349

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