文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-YA-348
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 電子線描画装置(30 kV)(スピンコータ、ホットプレート、現像設備一式(ドラフト、現像用冶具)を含む)
(Electron beam lithography system (30kV))
地域 中国
設置機関 山口大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 岸村
仕様

(株)エリオニクス社製  ELS-3700  

  • 電子銃エミッタ―:LaB6
  • 加速電圧:1~30kV     
  • 最小線幅:100nm
  • 試料サイズ:最大4インチ
  • 走査レート:0.5~3,200μs/step
  • フィールド継ぎ精度:500nm

 

F-YA-348

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)