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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-YA-347
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 電子線描画装置(50 kV)
(Electron beam lithography system (50kV))
地域 中国
設置機関 山口大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 岸村
仕様

(株)エリオニクス社製  ELS-7500EX  

  • 電子銃エミッタ―:ZrO/W熱電界放出型
  • 加速電圧:20~50kV
  • 最小線幅:10nm
  • 試料サイズ:最大6インチ
  • 重ね合わせ精度:60nm
  • 継ぎ精度:50nm
  • レーザー干渉計搭載
F-YA-347

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