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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-WS-150
分類 成膜・膜堆積 > 原子層堆積(ALD)
設備名 アトミックレイヤデポジション(ALD)装置
(Atomic layer deposition equipment)
地域 関東
設置機関 早稲田大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 野崎
仕様

Picosun社製 SUNALER A-150
 Al2O3膜を原子一層レベルで成膜可能
     H2O及びO3使用可
     基板サイズ小片~4インチ
     4”, 6”ウエハ, 及び20x20mm試料対応
    基板材料は原則としてダイヤモンドまたはSi

F-WS-150

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