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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-WS-128
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 電子ビーム描画装置
(Electron beam lithography system)
地域 関東
設置機関 早稲田大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 由比藤
仕様

エリオニクス社製7700
電子ビーム径2nm
基板サイズ小片~4インチ

F-WS-128

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