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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-WS-124
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 スパッタ装置
(Sputtering apparatus)
地域 関東
設置機関 早稲田大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 由比藤
仕様

アネルバ社製SPC350
試料サイズ小片~4インチ
4ターゲット、1エッチングガン
材料制約少
6試料セット可 

F-WS-124

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