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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-099
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 高速大面積電子線描画装置
(Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

型式番号:ADVANTEST F5112+VD01
長方形矩形の大きさを任意に変更してショットすることのできる高速電子線描画装置。
カケラ基板から8インチ丸基板までの任意形状に対応

F-UT-099

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