文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-133
分類 膜加工・エッチング > 集束イオンビーム加工
設備名 集積回路パターン微細加工(FIB)装置
(FIB for LSI Repair)
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

FEI V400ACE

LSI配線を効率的に修正するための装置です。DCG P2Xを置き換えました。
ガスを利用した金属配線カット、絶縁膜堆積、金属配線堆積が可能。
大規模集積回路(VLSI)の配線修正を最も得意とする装置です。
それ以外の利用は東大拠点では微細構造解析で公開しているXvision 200TBの利用がお勧めです。(案内します)

F-UT-133

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