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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-124
分類 膜加工・エッチング > ウエット/ガスエッチング,洗浄
設備名 気相フッ酸エッチング装置
(Vapor Phase HF Etcher )
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

IDONUS 8インチ装置 Vapor HF専用

気相フッ化水素(HF水溶液を蒸発)によって、選択的にシリコン酸化膜をエッチングし、可動構造体をリリースするための装置です。
独自構造によって、フッ酸に直接触れることなく、安全に利用することができます。
静電チャックによって、任意形状の基板をチャック下エッチングのほか、4,6,8インチの丸ウエーハは機械的クランプを行えます。

F-UT-124

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