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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-123
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(RIE)
設備名 汎用高品位ICPエッチング装置
( ICP-RIE machine)
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

ULVAC NE-550
CE-300Iの上位機種(ULVACのフラッグシップモデル)です。
大津・八井研究室の協力により利用可能になりました。
4”装置 塩素・フッ素系汎用  Cl2, BCL3, Ar, O2, CF4,CHF3, SF6, C3F8

F-UT-123

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