文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-115
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 8インチ汎用スパッタ装置
(General purpose Sputtering machine, ULVAC SIH-450)
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

ULVAC SIH-450装置。
4インチウエーハ8枚、8インチウエーハ2枚導入可能。
6インチターゲット2枚、4インチターゲット1枚が可能。RFとDCスパッタリングが可能。
Al,SiO2,TiN,Taターゲットがあります。その他のターゲット導入も相談に乗ります(在庫がない場合注文から導入まで数ヶ月かかることもありますので相談はお早めに。)

F-UT-115

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