文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-114
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
設備名 光リソグラフィ装置MA-6
(MA6 Suss 6" Mask Aligner)
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

Suss MA6(両面6”まで)

精密な位置合わせ(表裏1ミクロン精度)が可能で、欠片から6インチまでの露光が可能なマスクアライナーです。普段は混合で利用していますが必要であればi線フィルターをかけることができます。

F-UT-114

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