文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-109
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 川崎ブランチスパッタリング装置
(Multple Cathode Magnetron Sputtering System, CFS-4EP-LL)
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

型式番号:CFS-4EP-LL 芝浦メカトロニクス(株)
ターゲット材をアルゴンプラズマによってスパッタリングし、基板に製膜するスパッタリング装置です。
ターゲット材は日々変動するので都度相談ください。
φ200以下のシリコン、ガラス専用。

F-UT-109

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