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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-108
分類 切削、研磨、接合 > CMP(化学機械研磨)
設備名 精密研磨装置
(C.M. Polisher)
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

型式番号:Logitec 4"化学研磨装置
アルミナの粉によって、対象物を精密に研磨する装置です。
4"丸型ウエーハまで研磨可能。

F-UT-108

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