文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-102
分類 成膜・膜堆積 > 蒸着(抵抗加熱、電子線)
設備名 4インチ高真空EB蒸着装置
( Ultra high vacuum evaporator)
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

型式番号:NSPII
東大拠点で独自設計・自作した蒸着装置で、いわゆる抵抗加熱蒸着と電子線(EB)加熱蒸着との両方がが可能です。
主な材料はAu, Cr, Alです。

F-UT-102

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