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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-UT-100
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 マスク・ウエーハ自動現像装置群
(Photomask Dev. Ash. Etcher)
地域 関東
設置機関 東京大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

型式番号:EVG101(枝番1)とAPTCON1150(枝番2)
フォトマスク(5009)作製を行うための自動処理装置ですが、EVG101は5”マスクの現像のほか、TMAHを用いたに3~8”ウエーハ現像可

F-UT-100 F-UT-100

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