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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TU-072
分類 成膜・膜堆積 > CVD(化学気相成長)、有機膜
設備名 JPEL PECVD装置
(JPEL PECVD)
地域 東北
設置機関 東北大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

日本生産技術研究所  VDS-5600

  • SiN、SiO2の成膜
  • ガス:SiH4、NH3、N2O、N2
  • ステージ温度:最大300℃
  • 4インチ×20枚/バッチ
  • 6インチ×8枚/バッチ
F-TU-072

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