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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TU-070
分類 成膜・膜堆積 > CVD(化学気相成長)、有機膜
設備名 住友精密 PECVD装置
(Sumitomo PECVD)
地域 東北
設置機関 東北大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

住友精密 MPX-CVD

  • 低応力SiN、アモルファスSiの成膜
  • ガス:SiH4、NH3、N2O、Ar、C4F8、N2、O2
  • ステージ温度:最大350℃
  • 最大8インチ×1枚/バッチ
F-TU-070

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