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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TU-068
分類 成膜・膜堆積 > CVD(化学気相成長)、有機膜
設備名 LPCVD
(LPCVD)
地域 東北
設置機関 東北大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

国際電気/システムサービス

  • SiN、低応力SiN(Siリッチ)
  • SiON
  • SiO2
  • Poly-Si
  • ガス:SiH2Cl2、SiH4、NH3、N2O
  • 4インチ×30枚/バッチ
  • 6インチ×20枚/バッチ
F-TU-068

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