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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TU-053
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 EB描画装置
(EB lithography system)
地域 東北
設置機関 東北大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

エリオニクス ELS-G125S

  • 最大加速電圧:130keV
  • 最小描画パターン:10nm以下
  • 最大6インチ
F-TU-053

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