文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TU-039
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(ステッパ)
リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 ステッパ装置群一式(ステッパ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
(Stepper)
地域 東北
設置機関 東北大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

ステッパ:
  キヤノン FPA1550M4W
  g線ステッパ
  1/5縮小露光
  最小パターン:0.6μm
  レチクルサイズ:5インチ角
  4インチ/6インチ対応カセットtoカセット
スピンコータ:
  アクテス ASC-4000
  ミカサ 1H-DXII
  最大6インチ
クリーンオーブン:
  ヤマト科学 DE62
スプレー現像機:
  アクテス ADE-3000S
  最大6インチ
スピン乾燥機:
  東邦化成 ZAA-4
  最大6インチ

F-TU-039

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