文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TU-038
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
リソグラフィ・露光・描画装置 > レジスト塗布・現像装置
設備名 両面アライナ露光装置群一式(両面アライナ、スピンコータ、オーブン、現像機、乾燥機)
(Double-sided aligner)
地域 東北
設置機関 東北大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

両面アライナ:
  ズースマイクロテック MA6/BA6
  コンタクト/プロキシミティ露光
  片面/両面アライメント
  最小パターン:0.8μm
  ウェハ接合時のアライメントにも利用
  最大6インチ
スピンコータ:
  アクテス ASC-4000
  ミカサ 1H-DXII
  最大6インチ
クリーンオーブン:
  ヤマト科学 DE62
スプレー現像機:
  アクテス ADE-3000S
  最大6インチ
スピン乾燥機:
  東邦化成 ZAA-4
  最大6インチ

F-TU-038

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