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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TU-037
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクアライナ)
リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 パターンジェネレータ
(Pattern generator)
地域 東北
設置機関 東北大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

日本精工 TZ-310

  • エマルジョンマスク、Crマスク作製
  • 最小描画パターン:1μm
  • 最大6インチ角
  • 可変矩形パターンの1/10縮小露光によりフォトマスクを作製
  • 円弧部分は多角形に近似されるため、滑らかにはならない
  • ショット数が10,000程度までのフォトマスクパターンに最適
F-TU-037

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