文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム共用設備利用案内サイトへようこそ! 研究開発に必要な最先端の装置群を日本全国の研究機関から選べます。

研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TU-036
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 スパッタ装置
(Sputtering)
地域 東北
設置機関 東北大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

芝浦メカトロニクス CFS-4ESII

  • 基板冷却型(20℃水冷)と基板加熱型(最高300℃)1台ずつ
  • 基板冷却型はリフトオフ目的でのレジストパターンの導入が可能
  • 3インチターゲット×3
  • 各種金属、酸化物など約30種のターゲットを保有
  • ロードロックチャンバ無
  • 真空引き所要時間は約2時間
  • 最大8インチ×1枚/バッチ
F-TU-036

この設備に関するお問い合わせ先

本研究設備の詳細や利用方法等は、問い合わせフォームよりお問い合わせください。

設置機関Webサイト 設置機関Webサイト   この設備について問い合わせる この設備について問い合わせる(設置機関への問い合わせフォーム)