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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TT-228
分類 成膜・膜堆積 > 原子層堆積(ALD)
設備名 原子層堆積装置
(Atomic Layer Deposition (ALD) System)
地域 中部
設置機関 豊田工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 岩田直高 教授
仕様

Ultratech/Cambridge Nano Tech、Fiji F200

  • 熱、オゾンおよびプラズマ酸化方式が選択可能
  • Al2O3、SiO2、SiNおよびAlNの成膜が可能
  • 小片から8インチφまでの成膜が可能

 

F-TT-228

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