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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TT-224
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 光露光(マスクレス、直接描画)
設備名 マスクレス露光装置
(Maskless pattern generator)
地域 中部
設置機関 豊田工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 梶原建 支援員
佐々木実 教授
仕様

(株)大日本科研 MX-1204

  • φ4インチにポジ型フォトレジスト(膜厚1μm以上)に、2μm幅のラインアンドスペースを全面(外周3mm除く)に描いたときに、描画時間が30分程度。
  • 露光パターン幅のバラツキが100 nm(1σ)以下。
F-TT-224

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