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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TT-223
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 スパッタ(磁性材料)蒸着および分子線エピタキシー複合装置
(Sputtering (metal/insulator) deposition system)
地域 中部
設置機関 豊田工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 粟野博之 教授
仕様

アルバック製 BC2925(特注装置)

  • 超高真空仕様
  • RF2元、DC2元
  • ターゲット2インチΦと、分子線エピタキシーMBE3元(EBガン)の複合利用可能
  • 多層膜作成可能、主に磁性材料用
F-TT-223

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