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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TT-210
分類 膜加工・エッチング > ウエット/ガスエッチング,洗浄
設備名 気相フッ酸エッチング装置
(Hydrofluoric acid vapor etcher)
地域 中部
設置機関 豊田工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 佐々木実 教授
仕様

自作(シリコンMEMS用の犠牲層SiO2エッチング)
・φ3インチまで

F-TT-210

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