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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-TT-206
分類 合成、熱処理、ドーピング > 酸化、拡散、イオン注入
設備名 シリコン専用の各種熱処理(酸化、拡散)装置一式
(Oxidation/diffusion furnaces for Si)
地域 中部
設置機関 豊田工業大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者 梶原建 支援員
仕様

横型および縦型酸化・拡散炉一式
・シリコンウェハの酸化および不純物拡散(リンおよびボロン)
・φ3インチまでのシリコン基板

F-TT-206

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