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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-RO-361
分類 膜加工・エッチング > ドライエッチング(その他)
設備名 エッチング装置(ICP Al用)
(Inductively coupled plasma etcher for Al)
地域 中国
設置機関 広島大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

YOUTEC社製
Cl2, BCl3, N2使用可能

F-RO-361

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