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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-RO-357
分類 リソグラフィ・露光・描画装置 > 電子線描画(EB)
設備名 電子ビーム露光装置(JBX-5D)
(Point-beam type electron beam lithography system)
地域 中国
設置機関 広島大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

日本電子社製
ポイントビーム型、最小スポットサイズ30nm

F-RO-357

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