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研究設備詳細情報

事業名 ナノテクノロジープラットフォーム
機器ID F-RO-348
分類 成膜・膜堆積 > スパッタリング
設備名 スパッタ装置(汎用)
(Sputtering system for general purpose)
地域 中国
設置機関 広島大学
研究分野 微細加工
担当部署または担当者
仕様

エイコー社製
各種材料スパッタ用
(3インチターゲット交換により広範な材料に対応)
スパッタガス(Ar・O2・N2

F-RO-348

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